台湾月報

年月日	2001/10/19
分類	中台関係
記事	海峡両岸知的財産権シンポジウム開催関連
掲載紙、掲載面	工6
備考	両岸三地の法学専門家は、両岸がWTO加盟後、特許商標申請案件は増加する見込みであり、うち、中国は市場が大きく、国際組織のメンバーであることから、増加の量は台湾を大きく上回るとの見通しを示している。また、一部の専門家は、案件審査の質を確保するため、両岸の主管当局は、知的財産権の人材育成及び再教育を早期に行なわなければならないと建議。